51Tage

Angebotsfrist15.01.2025 11:00 Uhr

Plasmaanlagen für das reaktive Ionenätzen (reactive ion etching, RIE) und Plasmareinigung zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten Beschafft werden zwei Plasmaanlagen zur Reinigung bzw. Ätzung von bis zu 6 Zoll großen Substraten. Dabei ist eine Anlage zur Reinigung mit Ar und O2 und die zweite für das reaktive Ionenätzen (reactive...

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Vergabe­nummer (des Auftraggebers)

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Vergabe-ID (bei evergabe.de)

3078458
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Ausführungsort (1)

  • 57076 Siegen
    Adolf-Reichwein-Str. 2a, Nordrhein-Westfalen

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