ICPCVD-Beschichtungsanlage

24Tage

Angebotsfrist16.01.2025 12:00 Uhr

Ausgeschrieben wird eine Anlage zur chemischen Gasphasenabscheidung mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-CVD). Die Anlage soll ein Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur darstellen; und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Die Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße...

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Auftrag­geber

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Vergabe­nummer (des Auftraggebers)

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Vergabe-ID (bei evergabe.de)

3094363
24Tage

Angebotsfrist16.01.2025 12:00 Uhr

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Ausführungsort (1)

  • 33098 Paderborn

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