ICP-RIE-Plasmaätzanlage für cryogenes Trockenätzen von Silizium, Siliziumdioxid u.ä.

17Tage

Angebotsfrist09.01.2025 10:00 Uhr

Ausgeschriebene Leistung

Auftragsgegenstand ist eine ICP-RIE-Plasmaätzanlage für die Strukturierung mikro- und nanooptischer Elemente, konkret proportionales und binäres Plasmaätzen in dielektrische, halbleitende Materialien und Funktionsschichten (Quarzglas /fused silica, Silizium, SiOxNy , Siliziumkarbid, hochbrechende Materialien, wie Ta2O5, Nb2O5, etc.) mittels...

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Auftrag­geber

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Vergabe­nummer (des Auftraggebers)

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Vergabe-ID (bei evergabe.de)

3085308
17Tage

Angebotsfrist09.01.2025 10:00 Uhr

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Ausführungsort (1)

  • 07743 Jena

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